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Auswuchtmodul
Durchführung eines dynamischen Verfahrens auf zwei Ebenen
das Auswuchten auf einer Ebene als auch auf zwei Ebenen gelten, den Abschnitt Einrichten
des Microlog für ein Verfahren auf einer Ebene.
Setup-Optionen für das Auswuchten auf zwei Ebenen
Passen Sie die folgenden Einstellungen in der Maske 2-Ebenen-Auswucht-Setup für ein
Zwei-Ebenen-Verfahren an:
Ebenen-Setup – (2 Ebenen(A=K1&B=K2) oder 2 Ebenen(A&B=K1)), Wählen Sie aus, ob
Sie einen oder zwei Sensoren verwenden. Wählen Sie 2 Ebenen(A&B=K1) aus, wenn Sie
einen einzelnen Sensor zwischen Ebene 1 und Ebene 2 verschieben, um die Messungen zu
erfassen. Wählen Sie 2 Ebenen(A=K1&B=K2) aus, um jeweils über K1 und K2 einen
separaten Sensor an jede Ebene anzubringen und beide Messungen gleichzeitig
vorzunehmen. Beachten Sie, dass andere Setup-Felder eventuell entsprechend der
Auswuchtung auf zwei Ebenen angepasst werden.
Lösung – (Dynamisch oder 1-2-Ebenen mit Prognose), Wählen Sie Dynamisch aus, um
zwei Ausgleichsmassen-Lösungen für ein Auswuchtverfahren auf zwei Ebenen zu
berechnen. Wählen Sie 1-2 Ebenen mit Prognose aus, um mit einem dynamischen Zwei-
Ebenen-Wuchtverfahren zu beginnen. Nach dem Tarierlauf für Ebene A bestimmt der
Microlog jedoch, ob ein Auswuchtverfahren auf einer Ebene eine praktikable Option sein
könnte. Wenn dies der Fall ist, können Sie für den Rest des Wuchtverfahrens von einem
Ein-Ebenen- zu einem Zwei-Ebenen-Verfahren wechseln.
Ebene B Offset – Falls erforderlich, können Sie den Offset von Ebene B im Verhältnis zu
Ebene A in Grad eingeben. Damit Sie in der Lage sind, einen Offset einzugeben, muss
Kanal-Setup (in der Setup-Maske des Geräts) auf Einzeln eingestellt sein, und Sie müssen
Komponente für sowohl Ebene A Korr.-Typ als auch Ebene B Korr.-Typ auswählen.
Geben Sie die nach Bedarf entsprechende Anzahl von Komponenten für die einzelnen
Ebenen ein, und geben Sie anschließend den Ebene B Offset ein.
Durchführung eines dynamischen Verfahrens auf zwei Ebenen
Nachdem Sie Ihre Auswucht-Messgeräte und die Auswuchtmessungsparameter des
Microlog eingestellt haben, sind Sie bereit, um ein dynamisches Auswuchtverfahren auf zwei
Ebenen durchzuführen.
Durchführen des Referenzlaufes
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Für die Durchführung eines dynamischen Zwei-Ebenen-
Auswuchtverfahrens wird das Feld Lösung der Setup-Maske 2
Ebenen auf Dynamisch eingestellt.
Das Verfahren auf zwei Ebenen ist etwas anders, je nachdem, ob Sie
einen oder zwei Sensoren verwenden. Wird ein Sensor verwendet,
werden die Läufe für Ebene 1 und 2 der Reihe nach ausgeführt,
wodurch der Benutzer den Sensor zwischen den Ebenen verschieben
kann. Über Benutzeraufforderungen werden Sie angewiesen, den
Sensor zur anderen Ebene zu bewegen. Werden zwei Sensoren
verwendet, gilt die Annahme, dass die Sensorpositionen fest bleiben
und alle Läufe für Ebene 1 und 2 gleichzeitig erfolgen. Die folgenden
Anweisungen beschreiben das Verfahren mit zwei Sensoren
ausführlich. Wenn Sie zwei Sensoren verwenden, werden die
SKF Microlog - AX Series
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