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Axio Observer
Legende zu Bild 154:
1
Mikroskoptisch
2
Aperturblendenschieber MAT im Aufnahmefach A
3
Schieber Irisblende für Auflicht (als Leuchtfeldblende) im Aufnahmefach F
4
Taste LM-Set
5
Objektivrevolver
6
Kompensator-Aufnahme 6x20
7
Reflektorrevolver
8
Stellrad Optovarrevolver
9
Fokussiertrieb grob / fein
10
Taste RL zum Ein- / Ausschalten der LED-Leuchte / Halogenleuchte oder des Auflichtshutters (Fluoreszenz)
11
Einstellrad für Beleuchtungsintensität der LED-Leuchte / Halogenleuchte
12
Dreh- oder Schiebeknopf für Strahlteilung vis / doc
13
Dreh- / Schiebeknopf für Bertrandlinse und manuellen Shutter
14
Binokularteil des Tubus
15
Okular
16
Stellring des Okulars
17
Stand-by-Taste
18
Aufnahmefach für Schieber Analysator
19
Stellrad für Sideport
20
Stellrad für Umschaltung des Strahlengangs (Baseport / vis / Frontport)
21
Halterahmen K für Auflicht mit eingesetzter Tischlochblende
22
Halter mit LCD-Display
(1)
Anwendung
Die Auflicht-Hellfeldmikroskopie ist das einfachste und verbreitetste optische Mikroskopierverfahren, das
die Untersuchung lichtundurchlässiger Proben oder Präparate, wie z. B. Werkstoffanschliffe oder Wafer,
zum Inhalt hat.
Für eine objektgetreue Abbildung sind neben den sogenannten direkten Strahlbündeln die indirekten,
d. h. die an den Präparatdetails gebeugten und gestreuten Strahlbündel von wesentlicher Bedeutung. Je
größer dabei diese indirekten Bündelanteile (Apertur) sind, desto objektgetreuer ist nach ABBE die
mikroskopische Abbildung.
Das von der Auflicht-Leuchte kommende und gebündelte Licht wird an einem farbneutralen
Strahlenteiler reflektiert und passiert anschließend das Objektiv, welches die Strahlen auf die
Probenoberfläche fokussiert (sogenannte Kondensorfunktion). Das Objektiv sammelt das am Objekt
reflektierte Licht und erzeugt zusammen mit der Tubuslinse das mikroskopische Zwischenbild, welches
anschließend visuell beobachtet oder objektiv dokumentiert werden kann.
(2)
Geräteausrüstung
Axio Observer materials mit angeschlossener Leuchte microLED oder justierter Leuchte HAL 100
−
Reflektormodul H P&C im Reflektorrevolver
−
Objektiv EC Epiplan, EC Epiplan-Neofluar
−
12/2016
BEDIENUNG
Beleuchtungs- und Kontrastverfahren
431004-7244-000
ZEISS
157
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Kapitel
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