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3.
INBETRIEBNAHME DES INSTRUMENTS
3.2.2.
Start
des
Systems
aus
dem
BereitsChaftszustand
(Standby)
Diese Situation unterscheidet
sich
grundlegend
von
einem voll belüfteten System, da in
diesem Fall die Emissionskammer bereits unter Vakuum steht und die IGP noch in Betrieb
ist. Der Rest des Mikroskops ist
völlig
abgeschaltet Unter der Annahme, daß das Vakuum
in der Emissionskammer noch in Ordnung ist, werden für den Stan nur ca. 35 Minuten für
ODP-Systeme und 5 Minuten für TMP-Systeme benötigt.
I.
Zum Stan des Instruments die Taste
ON
auf dem Bedienungspult (Abb. 2.1) drük-
ken. Der Compcter
Slanet
und lädt die XL-Software in die Steuercomputer des In-
struments.
Das System für die Mikroskopsteuerung anklicken, um die Software
wie gewöhnlich
zu Slarten.
Während des SIa.rlS wird die Präparalkarnmer belüftet Man beachte auch, daß
so-
wohl das Säulenventil als auch das
Umgehungsventil
geschlossen
sind.
2.
Wenn die Mikroskopsteuerung in Betrieb ist, drücken Sie die
HIGH TENSION
-
Taste auf dem Bedienungspult. Das Tastenfeld
Pumpen
(Pump) im Bedienungs-
feld
Einstellung (Settings)
anklicken. Der Pumpzyklus wird dann
(für
ODP-
Systeme) in Gang gesetzt. Die ODP wird aufgeheizt (dies dauert etwa 25 Minu-
ten). Wenn
sie
auf BelriebstemperalUr ist, beginnt wie gewöhnlich das Auspumpen
der Kammer. Nachdem die Präparatkarnmer evakuiert
ist,
öffnet das Säulen ventil
und das Instrument ist betriebsbereit. Die Meldung
Yak OK (Vac OK)
wird un-
terhalb des Tastenfeldes
Pumpen (Pump)
angezeigt. Dies bedeutet, daß
das
vollständige Vakuumsystem betriebsbereit ist.
3.
Wenn die
ICC-Werte
für die Kathode
(vor
Einschaltung des Bereitschaftsbetrie-
bes) abgespeichert wurden, kann der
Elektronenstrahl
durch Anklicken von
Start
im Bedienungsfeld
Strahl
(Beam) wieder eingeschaltet werden
(automatische
Steigerung des Heizstroms auf den vordefinienen Wert und allmähliche
Einstel-
lung der gewählten Hochspannung).
Unter
diesen
Umständen sollte eine
Slabilisierungszeit
von
mindestens einer Stunde
abge-
wanet werden, bevor man
schwierigere
Aufnahmen macht.
Fehler während des
Startverfahrens
Während des Stanverfahrens können verschiedene Fehler auftreten. Im allgemeinen
stehen
sie in
Beziehung mit dem VakuumzuSland des Instruments. Wie bereits erwähnt, spielt
ein
sauberes Vakuum eine wesentliche Rollc beim Betrieb des Instruments und sorgt für eine
lange Lebensdauer und hohe Helligkeit der Kathode. Aus diesem Grund hat das Instrument
mehrere eingebaute 'Prüfpunkte', die nicht umgangen werden können. Mit anderen Worten,
es ist nicht möglich,
das
Instrument unter
schlechten
Vakuumbedingungen zu betreiben.
Das Ausheizverfahren
ist
ein wesentlicher Teil des Verfahrens, mit dem
ein
gutes Hoch-
vakuum für die Kathode erreicht werden
soll.
Aus diesem Grund darf man die Ausheizung
nicht überspringen (wenn das Instrument diese Frage
stellt),
ohne daß man genau weiß, aus
welchem Grund man
das
tut.
Es ist
nur dann
zu empfehlen,
das Ausheizen mit
Überspr.
(TryToSkip)
zu
überspringen, wenn der Bereich der Elektronenkanone nur
sehr
kurzzeitig
geöffnet war, z.B.
für
eine
mechanische Feineinstellung der Kathode.
Alle mit dem Vakuum
zusammenhängenden
Meldungen werden dem Benutzer im Klanext
präsentiert und die Prozeduren werden
automatisch
wiederholt, wenn das
gewünschte Er-
gebnis
nicht
erreicht wurde.
Wenn allerdings
Zweifel
über die Sauberkeit des Systems
be-
stehen,
muß unverzüglich
ein
Philips-Kundendiensuechniker
zu Rate gezogen
werden.
Phi
lips
XL-Rastcrelektronenmikroskop
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