GE ÄKTAprocess Bedienungsanleitung Seite 181

Chemische Konzentration
Reinigungslösun- 1 % bis 6 % STERIS™
gen CIP 100™, 0,5 %
Henkel P3™-11,
0,2 % Micro, 0,2 %
Terg-a-zyme™, 0,1 %
Tween™ 80
ÄKTAprocess Bedienungsanleitung 29-0252-49 AB
Max. Zeit /Zyklus
3 h bei einer Temp. ≤
60°C
8 Informationen zu Verweisen
8.2 Chemischer Widerstand
Max akz. Expos. Verwendung
3000 h CIP
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