Alrededor
Esta opción toma una muestra de los pixeles alrededor del rectángulo, la elipsis o el parche,
expandiéndolos y desenfocándolos a fin de crear un área heterogénea para corregir las
imperfecciones. A pesar de no contar con la misma técnica que el método de cuadrícula, ofrece
un resultado homogéneo.
Uniforme
Esta opción simplemente usa un desenfoque gausiano para corregir las imperfecciones.
Opciones de parche
Estas opciones permiten personalizar el efecto de un parche que cubre una imperfección.
Activar
Permite activar o desactivar un parche mediante fotogramas clave. Es de gran utilidad para
imperfecciones que solo se ven en unos pocos pixeles de una toma en particular.
Variabilidad
Exclusiva para parches espaciales. Al aumentar este parámetro, el método de relleno será
menos uniforme.
Bordes atenuados
Permite atenuar los bordes de los parches.
Ajuste del tamaño
Permite modificar el tamaño de un parche después de haber sido creado.
Controles avanzados
Estos controles permiten personalizar la interfaz para este efecto.
Clonación con el mouse
Con esta opción activada, al dibujar o colocar una forma geométrica o parche con los modos de
clonación, inmediatamente se se destaca el área de muestra, a fin de agilizar el proceso.
Nuevos parches permanecen seleccionados
Con esta opción activada, los parches permanecen seleccionados una vez dibujados, a fin de que
puedan personalizarse.
Grosor de los bordes en la interfaz
Permite ajustar el grosor de los bordes.
Entrega
Este modo brinda la posibilidad de visualizar distintas representaciones del efecto generado por los
parches. Hay cuatro opciones.
Resultado
El resultado final con el parche cubriendo la imperfección.
Ubicación
Se muestran los parches en blanco sobre negro.
Eliminación de polvo
644