Schutz Vor Beeinflussung Räumlich Naher Systeme - SICK deTem4 A/P Betriebsanleitung

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PROJEKTIERUNG
4.3.4 Schutz vor Beeinflussung räumlich naher Systeme
26 B E T R I E B S A N L E I T U N G | deTem4 A/P
Abstand zwischen Aktiv- und Passiv-
Einheit D in m
D > 3 m
Überblick
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Abbildung 11: Störfall 1: Gegenseitige Beeinflussung von System
Störfall 1: Die Infrarotlichtstrahlen der Aktiv-Einheit von System 1 können von der
Passiv-Einheit von System 2 reflektiert und von der Aktiv-Einheit von System 2 emp‐
fangen werden. Dies kann die Schutzfunktion der Systeme stören. Dann besteht Gefahr
für den Bediener.
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Abbildung 12: Störfall 2: Gegenseitige Beeinflussung von System
Störfall 2 : Die Infrarotlichtstrahlen der Aktiv-Einheiten der Systeme 1 und 2 können
sich gegenseitig beeinflussen. Dies kann die Schutzfunktion der Systeme stören. Dann
besteht Gefahr für den Bediener.
Wichtige Hinweise
GEFAHR
Gefahr der Unwirksamkeit der Schutzeinrichtung
Systeme von Mehrstrahl-Sicherheitslichtschranken, die räumlich nahe beieinander
arbeiten, können sich gegenseitig beeinflussen.
Die Beeinflussung räumlich naher Systeme mit geeigneten Maßnahmen verhin‐
b
dern.
Berechnung des Mindestabstands zu reflektierenden
Flächen a in mm
a = tan (2,5°) × 1000 mm/m × D = 43,66 × 1 mm/m ×
D
2
2
1 und System 2 verhindern
1 und System 2 verhindern
8024781/1DAL/2022-09-01 | SICK
Irrtümer und Änderungen vorbehalten