ANHANG A
Anhang A
Technische Spezifikationen
Leistung (XTP501)
Sensortechnologie
Gas
Messbereich
Genauigkeit (ohne
unterdrückte Nullbereiche)
Genauigkeit (für
unterdrückte Nullbereiche
20/80/90-100 %)
Ansprechzeit (T90) bei
aktiviertem HSR
Wiederholbarkeit
Linearität
Nullpunktstabilität
Stabilität des Messbereichs
Messgasdurchfluss
Messgasdruck
Messgastemperatur
Temperatur der
Messgaszelle
Hintergrundgas
Der Prozess-Sauerstoffanalysator XTP501 erfüllt oder übertrifft alle relevanten Klauseln
der BS EN 50104: 2010 "Elektrische Geräte für die Detektion und Messung von Sauerstoff".
Leistung (XTC501)
Sensortechnologie
Gas
Messbereich
Genauigkeit (H
oder He)
2
Genauigkeit (andere Gase)
Ansprechzeit (T90)
Wiederholbarkeit
Linearität
Nullpunktstabilität
Stabilität des Messbereichs ±0,5 % des Bereichs pro Monat
Messgasdurchfluss
Messgasdruck
Messgastemperatur
Temperatur der
Messgaszelle
Hintergrundgas
40
XTP501 & XTC501 Bedienungsanleitung
Thermo-paramagnetischer Sauerstoffsensor
Prozess und nicht kondensierende Probe mit Partikeln <3μm
Wählen Sie zwischen 0...5 % bis zu 0...50 % und 20...100 % bis zu
90...100 %
< ±1 % des Bereichs oder ±0,02 % O
< ±1 % des Bereichs oder 0,2 % O
< 15 Sekunden
±0,2 % des Bereichs oder 0,01 % O
±0,5 % des Bereichs oder 0,05 % O
±0,25 % des Bereichs pro Monat
±0,25 % des Bereichs pro Monat
100...500 ml/min (0,2...1,06 scfh)
0,75...1,5 Bar A (10...20 psi A)
5...45°C (+41...+113°F)
Standard +50°C (+113°F)
Der Analyzer wird im Hintergrundgas des Prozesses kalibriert.
Wärmeleitfähigkeitssensor
Prozess und nicht kondensierende Probe mit Partikeln <3μm
Wählen Sie von 0...5 % bis zu 0...100 % und 50...100 % bis zu
90...100 %
< ±1 % des Bereichs oder ±0,05 %, je nachdem, welcher Wert größer
ist
< ±2 % des Bereichs oder ±0,1 %, je nachdem, welcher Wert größer
ist
< 50 Sekunden für die meisten Gaskombinationen
±0,2 % vom Bereich
±1 % vom Bereich
±0,5 % des Bereichs pro Monat
100...500 ml/min (0,2...1,06 scfh)
0,75...1,5 Bar A (10...20 psi A)
5...45°C (+41...+113°F)
Standard +50°C (+113°F)
Der Analyzer wird im Hintergrundgas des Prozesses kalibriert.
, je nachdem, was größer ist
2
, je nachdem, was größer ist
2
, je nachdem, was größer ist
2
, je nachdem, was größer ist
2
99976 Ausgabe 1, Mai 2021