Schutz Vor Beeinflussung Räumlich Naher Systeme - SICK deTem4 Core A/P Betriebsanleitung

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PROJEKTIERUNG
4.3.4 Schutz vor Beeinflussung räumlich naher Systeme
22 B E T R I E B S A N L E I T U N G | deTem4 Core A/P
Abstand zwischen Aktiv- und Passiv-
Einheit D in m
D > 3 m
Überblick
!
Abbildung 11: Störfall 1: Gegenseitige Beeinflussung von System
Störfall 1: Die Infrarotlichtstrahlen der Aktiv-Einheit von System ! können von der Pas‐
siv-Einheit von System " reflektiert und von der Aktiv-Einheit von System " empfan‐
gen werden. Dies kann die Schutzfunktion der Systeme stören. Dann besteht Gefahr für
den Bediener.
!
Abbildung 12: Störfall 2: Gegenseitige Beeinflussung von System
Störfall 2 : Die Infrarotlichtstrahlen der Aktiv-Einheiten der Systeme ! und " können
sich gegenseitig beeinflussen. Dies kann die Schutzfunktion der Systeme stören. Dann
besteht Gefahr für den Bediener.
Wichtige Hinweise
GEFAHR
Gefahr der Unwirksamkeit der Schutzeinrichtung
Systeme von Mehrstrahl-Sicherheits-Lichtschranken, die räumlich nahe beieinander
arbeiten, können sich gegenseitig beeinflussen.
Die Beeinflussung räumlich naher Systeme mit geeigneten Maßnahmen verhin‐
b
dern.
Berechnung des Mindestabstands zu reflektierenden
Flächen a in mm
a = tan (2,5°) × 1000 mm/m × D = 43,66 × 1 mm/m ×
D
"
"
! und System " verhindern
! und System " verhindern
8024739/2020-04-07 | SICK
Irrtümer und Änderungen vorbehalten