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REM / Feldionenmikroskopie
Beschichtung des Abdrucks
Schattenkurve
Abtastenden Messgeräten
RepliSet
Referenzhandbuch
Unbedampfte 3D Abdrücke können direkt im Raster-
Elektronenmikroskop mit niedrigen kV (ca. 2 kV bei hohen
Vergrösserungen, sie kann höher sein bei niedrigeren
Vergrösserungen) untersucht werden, besonders auch mit dem
Feldionen-Mikroskop. Bedampfte Abdrücke können wenn erwünscht
zufriedenstellend mit 20kV untersucht werden.
Die besten Vergrößerungen liegen bei 2 – 3000x. Lose
Ablagerungen die mit dem Abdruck aufgenommen wurden können
mit dem REM chemisch analysiert werden. Das REM eignet sich
nicht für die Untersuchung von flachen Gefügeproben.
Abdrücke können metallbeschichtet werden, wobei das Ergebnis
allerdings von der benutzten Bedampfungsanlage abhängt. Zu
beachten ist, dass der Abdruck nicht überhitzt wird.
Eine Beschichtungsdichte von 100 Angstroms wird empfohlen. Es ist
empfehlenswert, mit zweifacher Evakuierung unter Rückspülung mit
Argon zu arbeiten. Wenn der Abdruck nicht richtig abgestützt ist,
bricht die Beschichtung.
Die Untersuchung des Abdrucks einer Höhlung bezieht sich auf die
Untersuchung der Innenseite eines Lochs.
Aufgrund der Elastizität des Abdrucks sind Untersuchungen mit
abtastenden Vorrichtungen nicht zu empfehlen.
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