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Die Grundeinheit darf nur bei einer Umgebungstemperatur zwi-
schen 5°C-40°C verwendet werden. Sie verfügt über einen Heiz-
und Schüttelmechanismus. Die Heizung erfolgt über eine Heizfo-
lie auf der Grundplatte. Der Temperaturbereich der Heizung be-
trägt Raumtemperatur bis 150 °C. Von daher sollten die Teile nie
berührt werden. Alle verwendeten Glasgeräte dürfen im gewähl-
ten Temperaturbereich weder verspröden noch mechanisch insta-
bil werden. Die Schüttelbewegung ist horizontal mit kreisförmiger
Bewegung und die maximale Umdrehungsgeschwindigkeit be-
trägt 600 UpM. Die Lösungsmitteldämpfe werden über einen zent-
ralen Vakuumanschluss abgesaugt und zur Kondensatoreinheit
geführt. Jedes Probegefäß wird durch den Vakuumanschluss ein-
zeln abgedichtet, wodurch Kreuzkontaminationen verhindert wer-
den.
Das Vakuumsystem erzeugt, regelt und hält das Vakuum kon-
stant, indem bei Vakuumverlust bis zum eingestellten Solldruck
nachgeregelt wird. Dies geschieht durch direktes Ein- und Aus-
schalten der Vakuumpumpe. Mit dem Hauptschalter wird die
Pumpe gestartet. Der Nachkondensator sorgt dafür, dass bei zu
tiefen Druckverhältnissen Lösungsmitteldämpfe auskondensiert
und im Auffanggefäss gesammelt werden. Durch Drehen im Uhr-
zeigersinn, kann dieses Gefäß entnommen, geleert und an-
schließend wieder montiert werden.
Das Gerät muss vor der Bedienung sauber sein. Chemikalien-
rückstände sind unter Beachtung der allgemeinen Richtlinien zum
Arbeiten mit Chemikalien zu entfernen.
Das Gerät darf nicht in Betrieb genommen werden, wenn Lö-
sungsmittel ins Innere gelangt sein könnten. In einem solchen Fall
muss das Gerät in einem gut belüfteten Abzug gestellt und abge-
wartet werden, bis alle Rückstände vollständig abgedampft sind.
Wenn das Gerät mit aggressiven und toxischen oder allergenen
Chemikalien betrieben wird, muss es dauerhaft in einem Abzug
gestellt werden.
Beim Arbeiten mit starken Säuren oder Basen ist neben der per-
sönlichen Schutzausrüstung gegebenenfalls das Tragen einer
Schutzschürze und eines Gesichtsschutzes notwendig. Werden
starke Säuren oder Basen destilliert, empfiehlt es sich die Pumpe
nach durchgeführter Applikation zu spülen. Dazu werden 5-10 mL
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