KERR Demi L.E.D Curing Light Handbuch Seite 116

— —
C I S P R A 1 1
C I S P R A 1 1
/
I E C 6 0 6 0 1 - 3 - 3
E S D
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 2
/
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 4
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 5
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 1 1
5 0 / 6 0 H z
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 8
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 6
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 3
1 8 0 M H z 8 0 0 M H z
2
¹
D e m i
² 1 5 0 k H z 8 0 M H z
D e m i R F
D e m i
D e m i
W
0 . 0 1
0 . 1
1
1 0
1 0 0
1 8 0 M H z 8 0 0 M H z
2
該Demi是為在下述電磁環境中的使用而設計的。
該設備的客戶或用戶都應保證該Demi被用於這類環境之中。
I
B
A
+ / - 4 k V
+ / - 8 k V
+ / - 2 k V
+ / - 1 k V
+ / - 1 k V
+ / - 1 k V
3 0 % U T 0 . 5
4 0 % U T 5
< 5 % U T 5
3 A / m
1 0 V r m s
1 5 0 k H z 8 0 M H z
1 0 V / m
8 0 M H z 2 . 5 G H z
/
D e m i
D e m i
1 0 V / m
m
1 5 0 k H z 8 0 M H z
d = 0 . 4 P
0 . 1
0 . 2
0 . 4
1 . 3
4 . 0
( m )
— —
D e m i R F
D e m i
— —
U T
R F
)
R F
A M F M
D e m i R F
8 0 M H z 8 0 0 M H z
d = 0 . 4 P
0 . 1
0 . 2
0 . 4
1 . 5
4 . 0
3 0 %
D e m i (
1
2
( )
8 0 0 M H z 2 . 5 G H z
d = 0 . 7 P
0 . 1
0 . 3
0 . 7
2 . 2
7 . 0
P ( W )
115