KERR Demi L.E.D Curing Light Handbuch Seite 112

— —
R D
C I S P R A 1 1
R D
C I S P R A 1 1
/
I E C 6 0 6 0 1 - 3 - 3
— —
( E S D )
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 2
/
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 4
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 5
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 1 1
( 5 0 / 6 0 H z )
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 8
R F
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 6
R F
I E C 6 1 0 0 0 - 4 - 3
1 8 0 M H z 8 0 0 M H z
2
¹
D e m i
2 1 5 0 K H z 8 0 M H z
D e m i R F
D e m i
D e m i R F
W
0 . 0 1
0 . 1
1
1 0
1 0 0
( W )
1 8 0 M H z 8 0 0 M H z
2
该Demi计划供在下述电磁环境中的使用。
该设备的客户或用户都应保证该Demi被用于这类环境之中。
I
B
A
+ / - 4 k V
+ / - 8 k V
+ / - 2 k V
+ / - 1 k V
+ / - 1 k V
+ / - 1 k V
0 . 5 3 0 % U T
5 6 0 % U T
< 5 % U T 5
3 A / m
1 0 V r m s
1 5 0 K H z 8 0 M H z
1 0 V / m
8 0 M H z 2 . 5 G H z
( / )
R F D e m i
D e m i
1 0 V / m
( )
m
1 5 0 K H z 8 0 M H z
d = 0 . 4 P
0 . 1
0 . 2
0 . 4
1 . 3
4 . 0
( m )
D e m i R F
R F
D e m i
U T
R F
)
R F
¹
A M F M T V
D e m i R F
8 0 M H z 8 0 0 M H z
d = 0 . 4 P
0 . 1
0 . 2
0 . 4
1 . 5
4 . 0
3 0 %
D e m i (
²
( )
8 0 0 M H z 2 . 5 G H z
d = 0 . 7 P
0 . 1
0 . 3
0 . 7
2 . 2
7 . 0
P
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