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4 Konfigurieren der NanoLockSpray Quelle
NanoFlow Gasversorgung
Der Gasdruck für den Zerstäuber des Sprühers wird über den Bereich von 0
bis 2 bar elektronisch geregelt. Obwohl der optimale Druck vom jeweiligen
Sprüher abhängt, liegt dieser normalerweise in einem Bereich zwischen
0,3 bar und 1,0 bar.
Spülgas
Das Spülgas fließt in der Regel mit 100 L/h. Es sorgt dafür, dass im
Quellengehäuse ein positiver Druck herrscht, durch den chemische
Hintergrundstörungen durch Verunreinigungen in der Laborluft auf ein
Minimum reduziert werden. Sie können diesen Fluss über die Registerkarte
Source (Quelle) im Fenster Tune (Abstimmung) anpassen. Weitere
Informationen hierzu finden Sie in der Online-Hilfe des
Massenspektrometers.
Justierung der Sprüherplattform
Die Justierungseinheit der Sprüherplattform ermöglicht die genaue
Positionierung der Sprüherspitze in X-, Y- und Z-Richtung. Sie können den
Sprüher auch aus der Quelle herausziehen, um Zugang zur Sprüherspitze zu
erhalten.
Die Plattform kann mithilfe von zwei Rändelschrauben an der Basis der
Justierungseinheit in die Quelle hinein bzw. heraus bewegt werden (siehe
„Arbeiten mit der Justierung der Sprüherplattform" auf Seite 96).
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11. Januar 2016, 715003891DE Rev. E
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