4. Bedienungsanleitung
4.4.2
Dispensierpositionen X-Richtung (links/rechts)
Wells mit flachem Boden
Funktion „Bewegen" für Z-Richtung (aufwärts)
Boden bewegen
Kundenspezifisch
bewegen
44
Diese Positionen sind in den Plattenparametern gespeichert, für eine Anpassung
siehe 5.5.3 Menü „Platte".
Für die Dispensier- und Waschschritte muss eine Dispensierposition ausgewählt
werden.
Die Dispensiernadeln sind in X-Richtung (links/rechts) ausgerichtet.
Vergewissern Sie sich, dass sich die Dispensiernadeln so nah wie möglich an der
Mitte der Wells befinden. Ihre Bewegung wird durch die Absaugnadeln
eingeschränkt.
Dispensiernadeln
Abb. 4 Dispensierpositionen für Wells mit flachem, rundem und v-förmigem
Boden
Die Funktion Bewegen kann für den Wasch-/Dispensierschritt ausgewählt werden
(empfohlen für niedrige Dispensierraten, bei Verwendung eines Puffers ohne
Reinigungsmittel oder bei Verwendung von 384-Well-Mikroplatten). Wenn die
Funktion Bewegen ausgeführt wird, bewegt sich der Waschkopf langsam in Z-
Richtung aufwärts (zusammen mit dem steigenden Flüssigkeitsstand im Well).
Die Funktion wird für sanfte Anwendungen wie zellbasierte Assays,
Magnetkügelchen-Anwendungen usw. verwendet (siehe
5.3.3 Dispensierschritt/Waschschritt).
Bei Verwendung von 384-Well-Mikroplatten wird die
Nutzung der Funktion „Bewegen" empfohlen.
Der Waschkopf bewegt sich beim Dispensieren schrittweise aufwärts
(zusammen mit dem steigenden Flüssigkeitsstand im Well), von der Z-
Position „Boden" zur Z-Position „Überlauf". (Siehe 4.4 Wasch-/Dispensier-
/Absaugpositionen ).
Der Waschkopf bewegt sich beim Dispensieren schrittweise aufwärts
(zusammen mit dem steigenden Flüssigkeitsstand im Well), von der Z-
Position „Kundenspezifisch" zur Z-Position „Überlauf". (Siehe 4.4 Wasch-
/Dispensier-/Absaugpositionen ).
HYDROSPEED Nr. 30213089 Ver. Nr. 2.0
Wells mit rundem und v-förmigem Boden
Hinweis
2022-04