Endress+Hauser TopCal S CPC 300 Betriebsanleitung Seite 108

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Die Auswahl der Reinigungsmittel ist abhängig von der Art der Verschmutzung. Die
häufigsten Verschmutzungen und die zugehörigen Reinigungsmittel sind in der folgen-
den Tabelle aufgeführt:
Art der Verschmutzung
Achtung!
Gefahr von Zerstörung des Sensors. Für einen IsFET-pH-Sensor (CPS 401) darf zur Reinigung kein Aceton
verwendet werden, da sonst das Material zerstört werden kann.
Fette und Öle
Warnung!
Gefahr von Verätzungen! Schützen Sie bei Verwendung der nachfolgenden Reinigungsmittel unbedingt
Hände, Augen und Kleidung!
Kalkablagerungen, Metallhydroxidbeläge,
schwere biol. Beläge
Sulfidablagerungen
Eiweiß- / (Protein-) beläge
Fasern, suspendierte Stoffe
"
Leichte biol. Beläge
Achtung!
Bitte fördern Sie nur verdünnte Säuren bis max. 3% direkt über die Pumpe. Achten Sie
dabei auf die Verträglichkeit der Säuren mit den medienberührenden Materialien der
Pumpe. Technische Säuren enthalten Beimengungen aggressiver Gase und können die
Lebensdauer der Komponenten verringern.
Aufgrund der Gefahr von Pumpenschäden müssen die folgenden Medien auf jeden Fall
über externe Zusatzventile und den Spülblock CPR 40 gefördert werden:
• Technische Säuren (z.B. technische Salzsäure)
• Konzentrierte Säuren (Phosphorsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Salzsäure)
• Aceton, Ketone, aromatische Lösungsmittel
• organische Säuren
• heiße Medien.
Bestellen Sie dazu bitte ein System mit Ansteuerung über Zusatzventile (siehe Bestell-
information).
Hinweis!
Redox-Elektroden nur mechanisch reinigen. Eine chemische Reinigung zwingt der
Elektrode ein Potenzial auf, das erst über mehrere Stunden abgebaut wird. Durch die-
ses Potenzial entsteht ein Messfehler.
TopCal S CPC 300
Reinigungsmittel
Tensidhaltige (alkalische) Mittel oder wasserlösliche
organische Lösemittel (z.B. Alkohol)
max. 3 % HCl
Mischung aus Salzsäure (3 %) und
Thioharnstoff (handelsüblich)
Mischung aus Salzsäure (0,1-molar) und
Pepsin (handelsüblich)
Druckwasser, evtl. mit Netzmitteln
Druckwasser
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