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Abbildung 6–29: Reinigen der zweiten Ionenführungseinheit
Haken
Leiterplatteneinheit des zweiten Ionenführungssystems
5.
Stellen Sie die Gefäße mit den Leiterplatteneinheiten der ersten und der zweiten
Ionenführungseinheit für 20 Minuten ins Ultraschallbad.
6.
Gießen Sie die Reinigungslösung aus dem Gefäß, das die Leiterplatteneinheit der ersten
Ionenführungseinheit enthält, behutsam in den Aufnahmebehälter. Halten Sie dabei die
Ionenführung in dem Gefäß fest.
Tipp:
Sie können die Reinigungslösung für einen weiteren Reinigungsvorgang
wiederverwenden.
7.
Füllen Sie das Gefäß mit entionisiertem Wasser, um die Leiterplatteneinheit der ersten
Ionenführungseinheit abzuspülen, und entsorgen Sie dann das Wasser.
8.
Füllen Sie das Gefäß erneut mit entionisiertem Wasser, um die Leiterplatteneinheit der
ersten Ionenführungseinheit ein zweites Mal abzuspülen, und entsorgen Sie dann das
Wasser.
Hinweis:
Stellen Sie sicher, dass sämtliche Reinigungslösung entfernt wird.
9.
Wiederholen Sie Schritt 6 bis Schritt 8 für die Leiterplatteneinheit der zweiten
Ionenführungseinheit.
10. Füllen Sie beide Gefäße mit entionisiertem Wasser. Stellen Sie dabei sicher, dass beide
Leiterplatteneinheiten der Ionenführungseinheiten vollständig eingetaucht sind.
11. Stellen Sie die Gefäße mit den Leiterplatteneinheiten der ersten und der zweiten
Ionenführungseinheit für 20 Minuten ins Ultraschallbad.
12. Gießen Sie das entionisierte Wasser behutsam aus beiden Gefäßen ab und entsorgen Sie
das Wasser. Halten Sie dabei die Leiterplatteneinheiten der Ionenführungseinheiten in den
Gefäßen fest.
11. November 2020, 715006380DE Version 03
Seite 144
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