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NICHT VERWENDEN:
• Monopolare elektrochirurgische Instrumente am Kopf oder Hals eines Patienten mit Osia
Implantat.
• Therapeutische oder medizinische Diathermie am Kopf oder Hals. Unterhalb des Halses kann
therapeutische oder medizinische Diathermie eingesetzt werden.
• Neurostimulation direkt über dem Implantat.
• Ultraschallfelder können unbeabsichtigt am Implantat konzentriert werden und
Gewebeschäden oder Schäden am Implantat verursachen.
• Eine Elektrokrampftherapie kann Gewebeschäden oder Schäden am Implantat verursachen.
Patienten mit Implantat dürfen unter keinen Umständen einer Elektrokrampftherapie
unterzogen werden.
Magnetresonanztomographie (MRT)
• Das Osia OSI200 Implantat ist bedingt MR-sicher. Siehe MRT-Sicherheitsinformationen auf
Seite 35.
• Das OSI200 Implantat verfügt über einen entfernbaren Magneten. Bei einer Feldstärke von
3 T muss dem Patienten zunächst der Magnet chirurgisch entfernt werden, bevor eine MRT
durchgeführt wird.
VORSICHT
• Wenn Sie mit scharfen Instrumenten in der Nähe des Implantats arbeiten, müssen Sie
sorgfältig darauf achten, das OSI200 Implantat nicht zu beschädigen.
• Das Implantat darf diagnostischer ionisierender Strahlung (Röntgenuntersuchungen,
Computertomographie) ausgesetzt werden. Der Soundprozessor muss während
Untersuchungen mit ionisierender Strahlung abgenommen werden.
• Setzen Sie das Implantat nicht einer Gesamtdosis von mehr als 70 Gy therapeutischer
ionisierender Strahlung aus.
© Cochlear Limited 2021
Handbuch für Ärzte OSI200 Implantat 5
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