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Sensorfunktionen; Chemische Sensorreinigung (Optional) - Vaisala HMT330 series Benutzerhandbuch

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BENUTZERHANDBUCH _____________________________________________________________

Sensorfunktionen

HINWEIS
136 __________________________________________________________________ M210566DE-K

Chemische Sensorreinigung (optional)

In einer Reihe industrieller Prozesse kann es zu einer allmählichen
Verstärkungs-Drift des Sensors kommen, die z. B. durch bestimmte
Chemikalien im gemessenen Gas hervorgerufen wird. Das Absinken
des Verstärkungsfaktors durch chemische Einflüsse und der Effekt der
chemischen Sensorreinigung sind in Abb. 66 unten dargestellt.
Der Polymerfilm des Feuchtesensors absorbiert die chemische Substanz,
wodurch sich die Fähigkeit des Polymers zur Absorption von Wasser-
molekülen verringert. In der Folge sinkt die Sensorverstärkung. Bei der
Sensorreinigung verdunsten die chemischen Fremdstoffe durch die Auf-
heizung des Feuchtesensors auf annähernd +160 °C für einige Minuten.
Der Reinigungszyklus umfasst eine Aufheizphase, eine Dauerheizphase,
sowie eine anschließende Abkühlphase. Sobald der Sensor auf Umgebungs-
temperatur abgekühlt ist, geht der Messwertgeber wieder in den Normal-
betrieb über. Insgesamt nimmt der Prozess etwa 6 Minuten in Anspruch.
Während der chemischen Sensorreinigung wird die Ausgabe von Werte
für etwa 6 Minuten gesperrt.
Abb. 66
Abnahme des Verstärkungsfaktors
0508-035

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