Coltene BioSonic UC50D Benutzerhandbuch Seite 51

用户指南
您的感染防控系统的重要组成部分
祝贺您购买了 BioSonic Ultrasonic Cleaner - 牙科领域最优质、最高
效的清洗系统。BioSonic 产品系列是特别针对牙科行业开发的，设
备具有独特的产品设计，能大大优化医院和诊室应用的时效性和安
全性。
BioSonic 是一套整体超声波清洗系统，提供各种清洗溶液和设备附
件，令您能灵活、高效地清洗器械、假体材料和其他装置。
何为超声波清洗？
超声波清洗是一种利用高频声波来进行清洁的过程。经特殊配方清
洗溶液增强的声波可以产生强大的气穴能量。气穴发生时无数的小
气泡形成后又破灭，或者说"聚爆"，因此产生巨大的能量和冲击
波，冲刷位于清洁溶液内的器械、装置和其他设备的表面。这种强
有力的冲刷作用可达到手动刷洗所达不到的细小缝隙。这种能量和
特殊配方清洗液的结合使超声波清洗成为去除大小残渣的最有效的
方法。
规定使用用途：BioSonic
高频声波的释放清洁医疗器械。
I. 拆开包装
1. 将您的 BioSonic 设备从运输集装箱中取出，并检查设备是否在
运输途中可能有任何损坏。
2. 比较设备的序列号（位于设备底部或背部）是否与运输外包装
箱上的号码一致。如果两者不一致，请联系您的经销商。
3. 请于收到设备 10 日内填写保修卡并寄至 Coltène/Whaledent 公
司。
4. 选择您想要放置清洗仪的位置。此位置应当紧邻水池或排水设
施的废水管路以便排污。
II. 操作说明
A. 常规清洁
1. 将电源线一端插入设备背部的电源线盒，另一端则接上三脚带
接地的交流插座（按照当地规定）。
2. 将水灌入设备至"灌注"线指示处（图 1）。
3. 将适量超声波清洗液（BioSonic General Purpose，BioSonic
Germicidal 或 BioSonic Enzymatic Ultrasonic Cleaner）倒入箱体。
(a) 禁止无水操作设备。无水操作设备可能会
导致设备的永久性损坏。
(b) 请 勿 将 物 件 直 接 置 于 箱 体 底 部 。 仅 使 用
BioSonic 附件篮、盒架或烧杯以避免对设备
注意！
的损坏。
4. 按下键盘选择清洁时间以激活设备。清洁循环结束后设备会自
动停止。按下"OFF"键可随时取消清洁循环。
5. 每天更换箱体中的液体，否则不久就会出现污染或脱色。如果
使用烧杯，每次使用后更换烧杯里的液体。
6. 在下水池上方倾斜设备以排空（图 2）。确保溶液从指示箭头
上方流出箱体（图 3）。
B. 排气
超声波溶液的排气是很重要的一个步骤。排气是去除新鲜溶液中发
现的气泡。这些气泡对清洁高效性有阻碍作用。
每次添加新的溶液时就有必要进行排气。先激活设备 15 分钟对溶
液进行排气，然后再放入需清洁的物品。
UC50 超声波清洗仪规定用于通过
C. 盖子
BioSonic Ultrasonic Cleaner 在操作捕获设备中的气溶胶时应始终被覆
盖。BioSonic UC50DB 装有一个"铰链"罩盖以便于单手打开。罩盖
也可方便地揭开，用于在设备上方有低柜的空间清洗操作和使用。
D. 器械排水
UC50DB 的设计将冷凝水排回箱体内以保持设备周围的工作区域干
燥。机身外壳对于篮子来说也起到泄水槽的作用。只要将篮子放在
水箱的嵌槽上（图 4）并让液体从器械上排下。
III. 清洗方法
A. 在箱体内
篮子清洗：将要清洗的部件放入篮中（图 5）。然后将篮子直接放
入装有 BioSonic General Purpose、Germicidal 或 Enzymatic Ultrasonic
Cleaner 的主箱体内。清洗时遵守瓶装标签上的说明。
B. 在烧杯内
对于专用物品的清洗（如假体）：将物品放入烧杯，按照产品指示
（如 BioSonic Cement Remover）添加所需的清洗液。使用烧杯架将
烧杯悬空在箱体内，并用烧杯环套住烧杯以使 2/3 的烧杯底部悬在
水浴内。
IV. 附件使用指南
A. 器械篮
BioSonic UC58 器械篮提高了器械处理效率并且可以避免器械损坏箱
体。
使用指南：将器械穿过棱线放在篮子底部（图 6）。将篮子放入水
箱并按所需时间清洗。
清洗后，请在流水下彻底冲洗篮子和器械。冲洗后，篮子可放在机
身外壳上泄水（图 4）。
B. 烧杯架
将两个 UC153 烧杯架放在机身外壳上。用烧杯环套住烧杯以使至少
2/3 的烧杯悬在水浴内（图 7）。按所需时间清洗。
V. 环境条件
• 规定室内使用。
• 最高海拔 2000 m。
•
5°C（41°F）
50%@40°C（104°F）
• 主电源电压波动不超过标称电压的 ± 10%。
• II 类瞬态超压。
• 2 级污染。
• I 类设备。
40°C（104°F）
80%@31°C（88°F）
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