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Messfunktionen; Mustererkennung: Pattern - Omron ZFX Kurzanleitung

Bildverarbeitungssystem mit integriertem touchscreen
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4-1

Mustererkennung: Pattern

Konfiguration
Ein Bildmuster wird vorher als Modell registriert, und es wird der Bereich
gesucht, der dem registrierten Modell am meisten ähnelt. Die Korrelation
(Übereinstimmung), die Position und die Drehlage des gefundenen können
ausgegeben werden.
Suchregion (Region
für Modellsuche)
Bezugspunkt
Modell
(zu suchendes Bildmuster)
Suchvorgang und Suchbetriebsart
1. Grobsuche
Es wird grob nach ähnlichen Teilen im
Gesamtbild gesucht.
2. Detaillierte Suche (Standardsuche)
Nach der Grobsuche wird diese Suche um
die grob abgesuchte Position herum
durchgeführt.
Korrelation
werden im Detail gemessen.
3. Präzise Suche
Nach der detaillierten Suche wird diese
Suche um die detailliert abgesuchte
Position herum durchgeführt. Es werden
eine noch detailliertere Korrelation und die
Subpixel-Lage gemessen.
Sonstige Einstellungen unter [Detail]
Suchmodus
Siehe oben
Schnell
Normal
(Werkseinstellung)
Präzise
Winkelbereich
Winkelbereich: 0 bis 180 (Werkseinstellung: 0)
Winkelintervall: 1, 2, 3, 5, 10, 15, 20, 30 (Werkseinstellung: 10)
Winkelintervall
Es ist möglich verdrehte Muster zu finden. Falls der Winkel-
bereich auf mehr als 0 eingestellt ist, werden verdrehte Modelle
automatisch registriert. Für jedes Modell wird ein Suchvorgang
durchgeführt.
Beispiel: Winkelbereich: 15, Winkelintervall: 5
-15
Messung
Es werden dem Modell ähnliche Teile gesucht.
Suchbetriebsart
und
Lage
Die Suche wird mit hoher Geschwindigkeit
durchgeführt.
Die Suche wird mit normaler Geschwindig-
keit und Genauigkeit durchgeführt.
Die Lage wird mit hoher Genauigkeit im Sub-
pixelbereich (kleiner als ein Pixel) berechnet.
-10
-5
0
A
ABSCHNITT 4

Messfunktionen

Schnell (1)
Normal (1)+(2)
Präzise (1)+(2)+(3)
+5
+10
+15
41

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