Y&C modify 1 (Advanced DME)
Lokalisieren eines Musters: Screen-Register n Y&C modify
Effektmuster
Typ
Parameter
A
–
Y&C modify 1: Betrag
der Bit-Masken-
A
Verarbeitung
Y&C modify 1: Betrag
der Bit-Masken-
Verarbeitung
Y&C modify 2:
Umschalten zwischen
A
Negativ und Positiv
Y&C modify 3: Betrag
der
Verschwommenheit
Rand
Lage
Bildschleppe,
Beleuchtung
usw.
TRL, DRP,
–
–
SDW, KEY
TRL, DRP,
–
–
SDW, KEY
TRL, DRP,
–
–
SDW, KEY,
Optionale
3D-
Leiterplatte
–
–
–
MAT