Spezifikation; Technische Daten; Daten Zum Plasmaquant Ms - Analytik Jena PlasmaQuant MS Bedienungsanleitung

Spezifikation

14 Spezifikation

14.1 Technische Daten

14.1.1 Daten zum PlasmaQuant MS

Probenzufuhr
Plasmaerzeugung,
Interface und
Störungsmanagement
Vakuumsystem
136
Probenart Flüssigkeiten
Pumpe Vierkanal-Schlauchpumpe mit Geschwindigkeitsregulierung (bis
max. 100 min
Zerstäubertyp
Konzentrischer Micromist-Zerstäuber (0,4 mL/min),
optional PFA-Zerstäuber (0,1 mL/min) für Ultraspurenanalytik und
Geochemie
Sprühkammer Scott-Sprühkammer mit Peltier-Kühlung
Transferrohr Verbindung zwischen Sprühkammer und Plasmafackel, optional
mit Hüllgasanschluss
Plasmafackel Einteilige Low Flow Standard-Plasmafackel mit 2,4 mm Injektor,
optional teilzerlegbare Plasmafackel mit Platin- bzw. Saphir-
Injektor für Ultraspurenanalytik und Geochemie,
Plasmafackel mit 1,5 mm Injektor für organische Proben
Plasmaerzeugung Halbleiter-HF-Generator (300 V RMS, 27 MHz), wassergekühlte
Induktionsspule mit drei Windungen, virtuell mittig geerdet. Keine
Fackelabschirmung erforderlich.
konstante Leistung zwischen 0,3 und 1,6 kW
optionales Nitrox: integrierte MFC-Gaskontrolleinheit für die
Zugabe von Stickstoff und Sauerstoff zum Plasma
Interface Wassergekühlter Interface-Block mit Sampler- und Skimmer-
Konus, Nickel-Konen (Standard), Konen mit Platinspitzen für
Einsatz mit ätzenden Proben
Störungsmanagement iCRC (integrierte Kollisions-Reaktions-Zelle)
Einleitung von Gas (He oder H
Beseitigung störender Ionen wie ArO
Kollisionen
Vakuumsystem Dreikammer-Vakuumsystem, differentielle Pumpstufen mit 1
Vorvakuumpumpe und 2 integrierten Turbomolekularpumpen
erste Kammer: Interface mit Sampler- und Skimmer-Konus, Druck
5 mbar, Zu Wartungszwecken kann die Kammer nach auto-
matischem Schließen des Gate Valve auf Umgebungsdruck
gebracht werden.
zweite Kammer: Ionenoptik, Druck 10
dritte Kammer:
Massenanalysator und Detektor, Druck 7 x 10
PlasmaQuant MS Produktfamilie
)
-1
) in das Plasma-Interface,
2
durch Reaktionen und
+
-4 mbar
-5 mbar